三星光刻仿真引入量子计算，下半年启动概念验证

7月3日，据证券时报报道，三星正计划在半导体光刻仿真技术中引入量子计算，推动芯片集成密度与良率突破。该项目由三星子公司SDS主导，已攻克部分核心算法，计划2026年下半年启动概念验证。

技术背景

随着三星规划四年内实现1.4纳米埃米级先进制程量产，电路线宽接近原子级别，光学邻近校正（OPC，Optical Proximity Correction）的仿真变量呈指数级增长，传统计算机面临严重算力瓶颈。

为什么需要量子计算？

技术原理

量子比特利用"叠加"和"纠缠"两大特性，可以实现海量变量的并行运算，有望彻底解决埃米级制程的仿真算力难题。三星SDS团队已在高维变量优化、量子-经典混合算法等方向取得突破。

行业意义

如果概念验证成功，这将是量子计算在半导体制造领域的首个规模化应用。埃米级制程光刻仿真被认为是量子计算的"杀手级应用场景"之一，其成功将同时推动：

1. 半导体先进制程良率大幅提升
2. 量子计算从实验室走向工业应用
3. 芯片制造成本的显著降低

竞争格局

台积电、英特尔也在探索量子+光刻仿真的结合路径。三星此举意在先进制程竞争中建立差异化优势，量子计算或将成为下一代半导体制造的"胜负手"。